데이터를 통한 공정 운영 효율 최적화

다중 분석 시스템을 통한 최적의 에칭 조건 구현

PECS Plasma Eye Chromatics Stethoscope System

PECS Plasma Eye Chromatics Stethoscope System이란?

PECS는 반도체의 플라즈마 공정 데이터를 초고속 옵티컬 센서(100KHZ)를 통해 수집/분석하여 어플리케 이션에 최적화된 알고리즘을 생성하여 운영 효율을 극대화하는 시스템입니다.

  • 초고속/고해상도 옵티컬 센서
  • 공정별 최적화된 알고리즘 제공
  • 공정별 맞춤 센서 선택 가능
    • Abnormal & Arc: HB-PSA
    • EPD 및 클린 상태: HB-PSD
  • Smart-Chamber 구현에 최적화
  • Etch & PVD 이슈 방지
  • 간편하고 직관적인 사용자 환경 및 분석기
  • Chamber 상태 예측
  • 기본 알고리즘 제공 및 설정 변경 기능

동작 원리

PECS 시스템 사양

공정별 타센서

Application OES VI-probe PECS Remark
Plasma Intensity Transition ◎ X ◎ PECS 기준
Plasma
Abnormal
Discharge		 Arc X ◎ ◎ VI-prove 기준
Flickerring X X ◎ PECS 기준
Particle X X △ PECS 기준
EPD ◎ ○ ○ OES 기준
Clean ◎ X ◎ OES 기준
Plasma Shift
(PM 후 구동 시점, PM 시기)		 △ X ◎ PECS 기준
Thermal Rediation (500°C ↑) X X ◎ PECS 기준
Recipe Optimize △ X ◎ PECS 기준
1 st wafer effect △ X ◎ PECS 기준
Purge (500°C ↑) X X ◎ PECS 기준

시스템 사양

Descriptions Spectifications
Dimention 100 x 250 x 160 (mm)
Resolution 65,536 counts
Sampling Rate 100,000 Hz
10usec / scan
AD Converting 16 bit 10 MHz
Gain Control -22dB to 20dB
(Gain Module, Optical Fiber)
Sencor Type Sensor Module, Optical Fiber
Spectral
Response
Range
(nm)		 PECS-HB-100 blue 400 to 520 (Peek 460)
Green 520 to 600 (Peek 540)
Red 600 to 720 (Peek 620)
PECS-HB-110 Blue 400 to 520 (Peek 460)
Green 520 to 600 (Peek 540)
Red 600 to 720 (Peek 620)
8 CH 325 ro 725 (50um 간격)